科(ke)創南(nan)方8月7日報(bao)道，近(jin)日，深(shen)圳市龍(long)圖光罩股份有限公司在(zai)上交所科(ke)創板(ban)掛牌上市。
龍圖光罩發行價為18.5元，是科創板定價新規下首家發行定價環節適用剔除3%最高報價比(bi)例的科創板個股。
此次公開發行3337.5萬(wan)股，募資總額為6.17億元(yuan)。昨日的首日開盤價為41元，較發行價上漲了121.6%;首日收盤價為34.90元，首日市值達46.59億元。
今日，該公司收盤價為31.30元，市值為41.8億元。
成立于2010年的龍圖光罩，主營業務為半導體掩模版的研發、生產和銷售，是國內稀缺的獨立第三方半導(dao)體掩模(mo)版(ban)廠(chang)商，掌握了130nm 及以(yi)上(shang)制程節(jie)點半導體掩模(mo)版生產(chan)制造的關鍵技(ji)術。
半(ban)導(dao)體掩(yan)膜版是什么？
掩膜(mo)版(ban)，也(ye)被稱為是光(guang)罩(zhao)、光(guang)掩版(ban)，是半(ban)導體制造過(guo)程中不可(ke)或缺(que)的(de)圖(tu)形(xing)模版(ban)。就像傳統相機的(de)“底片”一樣，掩膜(mo)版(ban)承擔著把設計圖(tu)案轉化成實體產品的(de)關鍵步驟。
掩模版(ban)(ban)是上游(you)芯片設計公司與下游(you)晶圓制(zhi)造廠商的(de)中(zhong)間橋梁。掩膜版(ban)(ban)上有預先設計好的(de)電路圖案(an)，通過一系列精細的(de)曝光工藝(yi)，這些電路圖案(an)就會被“投(tou)影”到下游(you)制(zhi)程(cheng)的(de)材料上，從而實現產(chan)品的(de)批(pi)量化生產(chan)。
很長一段時間來，美日廠商在全球第三方半導體掩膜版市場占據壟斷地位。根據SEMI 數據，在全球半導體掩模版市場，晶圓廠自行配套的掩模版工廠規模占比 65%，獨立第三方掩模廠商規模占比 35%，其中獨立第三方半導體掩模版市場主要被美(mei)國(guo) Photronics、日本 Toppan 和(he)日本 DNP 三家公(gong)司(si)所控(kong)制，三者共占八成以(yi)上的市場規模。
龍圖光罩正是國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版生產商，而龍圖光罩的成功上市，可以說是讓半導體掩膜版的“國產替代”又向前邁進了一步，該公司也是目前A股(gu)市場上(shang)唯一(yi)(yi)一(yi)(yi)家半導體掩膜版(ban)收入占(zhan)比超(chao)9成的公(gong)司。
隨著下游新興產業如新能源汽車、光伏發電、工業自動化等的發展，國內半導體掩膜版需求近年來大幅增加，這也使得龍圖光罩在2021年至2023年，營業收入年均復合增長率達到38.56%，其凈利潤的年均復合增長率更是超過了40%。
回顧龍圖光罩的上市歷程，從2023年5月受理材料開始，其上市審核過程大概用了1年3個月，相比創業板、主板或科創板的絕大多數企業耗時，已是非常高效。
通過本次上市，龍圖光罩將持續加大技術創新投入，本次擬募集資金6.63億元(yuan)，將直接用于電子束光刻(ke)機等一系(xi)列(lie)高(gao)端設(she)備購置及(ji)(ji)產(chan)線建設(she)，推動90nm、65nm及(ji)(ji)更高(gao)制程節(jie)點半(ban)導(dao)體掩模版的技術突(tu)破，補(bu)強產(chan)業發展(zhan)短板(ban)，提(ti)升自主(zhu)可控(kong)水平。
一、業績情況亮眼，營收年均復合增長率近40%
據招股書顯示，龍圖光罩主營業務為半(ban)導體掩模版(ban)的研(yan)發、生產和銷售。
2021年—2023年，龍圖光罩的營業收入分別為1.13億元、1.61億元和2.18億元，年均復合增長率為38.56%。而半導體掩模版則是龍圖光罩的主要收入來源，報告期內來自半導體掩模版的收入分別為8672.51萬元(yuan)、1.38億元(yuan)和1.98億元(yuan)，分別占主營業務收入的76.28%、85.44%和(he)91.1３%。
盡管龍圖光罩2023年營收規模為2.18億，但毛利率保持60%左右，凈利率接近40%。
在研發投入方面，龍圖光罩三年的研發支出分別為931.80萬(wan)元(yuan)、1533.31萬(wan)元(yuan)和2017.59萬(wan)元(yuan)，占營業收入的比例分別為8.20%、9.49%和9.24%。同時，公司研發費用的年均復合增長率達到了47.15%，與(yu)同行(xing)業上市公(gong)司相比，其研發(fa)費用率(lv)略高(gao)。研發(fa)中心的人才隊伍(wu)也從2021年末的26人增長至 2023 年末的42人。
在銷售費用方面，費用率呈現一定的下降趨勢，2021年至2023年占比分別為3.92%、3.07%、2.87%，這與公司重點開發和(he)加深與下游半導體行(xing)業大客戶的合作有(you)關，大客戶的收(shou)入規模和(he)占比提升(sheng)，帶(dai)來(lai)了收(shou)入集中度的提升(sheng)，進而銷售(shou)費用率(lv)下降。
2021年到2023年，龍圖光罩的負債分別為7009.67萬(wan)元、4916.19萬(wan)元、7834.29萬(wan)元，資產負債率分別為41.95%、9.57%和(he)12.40%。2022 年度，公司資產負債率下降幅度較大，主要與該公司進行股權融資，引入外部股東有關。總的來說(shuo)，公司資產負(fu)債率(lv)(lv)、流動(dong)比(bi)率(lv)(lv)、速動(dong)比(bi)率(lv)(lv)均優于同(tong)行業可(ke)比(bi)公司，公司償(chang)債能力良好(hao)。
二 以半導體掩膜版為核心，持續提升工藝節點
龍圖光罩緊跟國內特色工藝半導體發展路線，不斷進行技術攻關和產品迭代，半導體掩模版對應下游半導體產品的工藝節點從 1μm 逐步提升至 130nm，產品廣泛應用于功率半導(dao)體、MEMS 傳(chuan)感器、IC 封裝、模擬 IC 等特(te)色(se)工藝半(ban)導體領域(yu)，終端應用涵蓋新(xin)能源、光伏發電、汽(qi)車電子、工業控制、無線(xian)通信、物聯網、消費電子等場景。
成立十(shi)年以來(lai)，龍圖光罩主要(yao)產品的(de)發展演變情(qing)況可以分為以下(xia)三個階段：
根據基板材質的不同，龍圖光照的掩膜版產品可以分為兩類，石英掩膜版和蘇(su)打掩(yan)膜版。從2021年到2023年，石英掩膜版收入分別為6038.85萬元(yuan)、1.12億元(yuan)、1.72億元(yuan)，占比從53.12%、69.59%上升到78.79%；蘇打掩膜版的收入分別為5330.41萬(wan)元(yuan)、4912.5萬(wan)元(yuan)6、4630.21萬(wan)元(yuan)，占比從46.88%、30.41%下降至21.21%。
以下游應用領域來劃分，龍圖光罩的主營業務收入則可以分為三大方面，分別是半導體掩膜版(ban)、光學器件(jian)及其他領域。
三年里，半導體掩膜版帶來的營業收入分別為8672.51萬(wan)元、1.38億(yi)(yi)元、1.99億(yi)(yi)元，占比從76.28%逐漸攀升至85.44%、91.13%。
三、形成三大核心技術體系，打造專有技術壁壘
半導體掩模版行業高度依賴專有技術，具有鮮明的“Know-How” 特點（指根據多年經(jing)驗與實踐得來的(de)(de)知識結晶，一(yi)般(ban)在企(qi)業內部沒有專(zhuan)(zhuan)利(li)保(bao)護，或者(zhe)和(he)專(zhuan)(zhuan)利(li)相輔(fu)相成，表現為(wei)技術訣竅、專(zhuan)(zhuan)業知識、獨家配方(fang)，屬(shu)于無(wu)形資產(chan)的(de)(de)商(shang)業秘密）。
目前，龍圖光罩形成了了涵蓋 CAM 版圖處(chu)理、光(guang)刻及檢測的三大(da)核心技(ji)術(shu)體系，解決了高精(jing)度(du)掩模版(ban)制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)作過程(cheng)中對于精(jing)度(du)和(he)缺陷控制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)的難題(ti)，在(zai)制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)程(cheng)能(neng)力、精(jing)度(du)控制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)及缺陷控制(zhi)(zhi)(zhi)(zhi)方面達到國內較為(wei)領(ling)先的水平。
為了(le)解決下晶圓曝光(guang)存在(zai)圖(tu)(tu)形(xing)(xing)失真現象，提高(gao)晶圓曝光(guang)的分辨率與精度(du)，就需要要在(zai)CAM 環(huan)節(jie)對掩(yan)模版圖(tu)(tu)形(xing)(xing)進行二次加工(gong)（OPC），通過圖(tu)(tu)形(xing)(xing)補(bu)償來抵消圖(tu)(tu)形(xing)(xing)偏差。
龍圖光罩通過大量實驗與實踐數據，建立了自身特有的基于規則的OPC數(shu)據庫，能(neng)夠對(dui)各種設計版圖進(jin)行 快(kuai)速、準確(que)的自動(dong)化OPC補償處理(li)，實現了制程與精度的顯(xian)著提升。
在光刻環節，龍圖光罩司自研了一套高精度制(zhi)程管控系(xi)統(tong)來滿足光刻機等精(jing)密(mi)設備的苛(ke)刻環境(jing)需求，通過對(dui)溫度(du)、濕度(du)、氣流擾動、微振(zhen)動等制程參數進行實時(shi)監控與調(diao)節，有效地提高(gao)了掩(yan)模產品(pin)的位置精(jing)度(du)、套刻精(jing)度(du)，降低了產品(pin)的缺陷水平。
同時，該公司根據自研軟件算法及多年的掩模光刻經驗，通過精確控制曝光光源的輸出功率、曝光時間、聚焦深度、束斑形狀等參數，對曝光環節進行反向補償與動態優化，實現光刻機(ji)能量輸出的(de)精細化控制(zhi)，顯著提升產品CD精度。
掩模版上的各類缺陷通常極為微觀，在檢測環節，龍圖光罩能夠精準檢測出掩模版上納(na)米(mi)級缺(que)陷，并自研了一套缺(que)陷修補與異物去除(chu)技術，利(li)用(yong)激光物理作用(yong)與蝕(shi)刻液化學反應(ying)相結(jie)合的方(fang)式，有效(xiao)地(di)消除了激光修(xiu)復后(hou)所產生修(xiu)復印痕，避免(mian) 了因缺陷修(xiu)復所帶(dai)來的二次損傷。
截止2023年底，龍圖光照已取得43項專利，其中發明專利16項，實用新型專利27項。另外，還有36項(xiang)計算機軟件著作權。
龍圖光罩的多項專有技術其實并不易于(yu)以專(zhuan)利(li)形式保護，不過(guo)這些技(ji)術(shu)(shu)專(zhuan)有技(ji)術(shu)(shu)形成(cheng)了(le)它(ta)享有的(de)技(ji)術(shu)(shu)紅利，同(tong)時(shi)也(ye)構成(cheng)了(le)半導(dao)體(ti)掩模(mo)版較高的(de)行業壁壘(lei)。
四、較強上下游匹配能力，客戶集中度穩定
獨(du)立(li)的(de)第三方半(ban)導體掩膜(mo)版生產商，需(xu)要(yao)根據上游芯片設計公(gong)司提供的(de)設計版圖，及下(xia)游晶圓制造(zao)廠商提供的(de)制作工(gong)藝要(yao)求，設計并制作出同時滿足芯片設計公(gong)司和晶圓制造(zao)廠要(yao)求的(de)、用于晶圓加工(gong)的(de)半(ban)導體掩模版。
在不斷追逐行業技術進步的過程中，龍圖光罩不僅形成了大量的專有技術，也具備了較強的上下(xia)游匹配能(neng)力。
龍圖光罩上游原材料主要是石英基板(ban)、蘇(su)打基板(ban)以及光學膜，供應商主要是環球國際、璩玖科技、韶(shao)光芯材、微(wei)擇科技、S&STECHCorp等企業。
龍圖光罩的客戶，一方面涵蓋芯(xin)(xin)片制造(zao)廠商、MEMS 傳(chuan)感 器廠商、先進封裝(zhuang)廠商、芯(xin)(xin)片設計公(gong)司，如中芯(xin)集成、士蘭(lan)微、積塔半(ban)導(dao)體(ti)、華虹半(ban)導(dao)體(ti)、新唐科技(ji)、比(bi)亞迪半(ban)導(dao)體(ti)、立昂微、燕東微、粵(yue)芯(xin)半(ban)導(dao)體(ti)、長(chang)飛先進、揚杰科技(ji)、英(ying)集芯(xin)、芯(xin)朋微、斯(si)達半(ban)導(dao)體(ti)等。
另一方面，也涉及進行基礎技術研究的知名高校及(ji)科研院所，如清(qing)華大學、上(shang)海交通大學、復旦大學、浙江大學等(deng)。
2021年到2023年，龍圖(tu)光罩(zhao)前五大客戶銷(xiao)售集中(zhong)度(du)較為穩(wen)定，均為工藝半導體行業內的大客戶。
五、三人為實際控制人，無控股股東
柯漢奇、葉小龍、張(zhang)道(dao)谷分別直接持有龍圖光罩?26.33%、26.33%、19.56%股權，柯漢奇通過深圳市奇龍谷投資合伙企業（有限合伙）控制公司3.76%股權，三人合計控制龍圖光罩75.99%股權，上述三方為公司的共同實際控制人。公(gong)司(si)無控(kong)股股東(dong)。
另外(wai)，南海成長、惠友(you)豪嘉、華虹虹芯、瑞(rui)揚(yang)合伙、士蘭控(kong)股、銀杏谷(gu)壹號為(wei)外(wai)部機構股東(dong)。
龍圖光(guang)罩董(dong)(dong)事(shi)會由5名成(cheng)員組成(cheng)，分別是董(dong)(dong)事(shi)長(chang)柯(ke)漢奇、董(dong)(dong)事(shi)兼總經(jing)理葉小龍、董(dong)(dong)事(shi)張道谷，以及兩名獨立董(dong)(dong)事(shi)袁振超、安豐偉。
柯漢(han)(han)奇(qi)是60后，固(gu)體物理專(zhuan)業研究(jiu)生。他曾在深(shen)圳市(shi)先科企業集團(tuan)當過工程師、部門(men)經理，還在中國南(nan)玻集團(tuan)股份有限公司擔任事業部總(zong)裁、集團(tuan)副總(zong)裁，2018年2月至今柯漢(han)(han)奇(qi)任職(zhi)于龍(long)圖光罩。
葉小龍，環境設計專(zhuan)業(ye)本科，他曾在(zai)(zai)深圳(zhen)清溢光電股份有限公司(si)從市場部(bu)經(jing)理擔任副總經(jing)理，2010年4月(yue)至今(jin)在(zai)(zai)龍圖光罩任職。
張(zhang)道谷，機(ji)械(xie)制造工藝及(ji)設備專業(ye)(ye)本科。他曾擔任湖(hu)北省黃岡鋁業(ye)(ye)公司的(de)副廠長(chang)，還當(dang)過深(shen)圳(zhen)美(mei)科電腦設計(ji)有限公司總(zong)經(jing)理(li)，2018 年2月至今(jin)在龍圖光(guang)罩任職(zhi)。
結語：下游創新推動半導體需求增長，國產替代步伐不斷加快
近年來，隨著新能(neng)源汽車、光伏(fu) 自動(dong)駕駛、新一(yi)代(dai)移動(dong)通信、人工智能(neng)等新技術的(de)(de)不斷成熟，終端產品更新迭代(dai)速度加快，推動(dong)了半導體行業(ye)的(de)(de)迅(xun)速發展(zhan)，也為(wei)半導體掩(yan)模版創造了大量的(de)(de)市場(chang)需求(qiu)。
曾經國外廠(chang)商(shang)在(zai)半導體(ti)(ti)掩(yan)膜版(ban)上(shang)占據壟斷(duan)地(di)位，而隨著龍(long)圖(tu)光罩這樣的獨立第三(san)方半導體(ti)(ti)掩(yan)模版(ban)廠(chang)商(shang)崛起，也將有望加快國產替代的步伐，填補我(wo)國高端(duan)半導體(ti)(ti)掩(yan)模版(ban)領域的空(kong)白。
